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一种基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置的制造方法

2017-05-23 13:05 来源:未知 编辑:春晚直播 手机浏览
专利名称:一种基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,包括支架、转轴、步进电机、转角支架、滑轨、第一滑块、第二滑块、第一次倾角斜面、第二次倾角斜面、第一调节螺杆、第二调节螺杆、第一固定块及第一导杆及第二导杆。本实用新型能够用于精确测量微弱接触力的镀层接触电阻,及其随力加载过程中的接触电阻随加载力之间的变化关系,其静态的接触力加载方式可以避免接触测试中出现的对待测接触面的二次塑形问题,避免影响测试结果,且其实现成本较低。
【专利说明】
-种基于斜面接触的微弱接触力的媳层接触电阻测试装置
技术领域
[0001] 本实用新型设及一种锻层接触电阻测试装置,具体设及一种基于斜面接触的微弱 接触力的锻层接触电阻测试装置。
【背景技术】
[0002] 目前,已知的接触电阻测试方法普遍采用待测压头与待测接触面的直接接触结 构,在加载力情况下进行直接的接触电阻评估。基于该思路的接触电阻精密测试要求极为 精确的力加载机构W保证在加力动态过程中待测接触面的稳定性,同时为降低自身寄生阻 抗对测试结果的影响,对测试压头的形状及材料都有严格要求,都使接触电阻的精确测试 变得复杂。与此同时,在上述加力控制过程,W目前较为高级的机械步进控制的自动加力机 为例,其反馈控制过程不可避免的会对接触界面造成二次塑型,直接影响实际接触界面的 接触电阻测试准确性。而在保证加力稳定性及准确性的更为高级的应用场合中,基于压电 晶体的微弱力执行器可极为精准的进行微弱接触力加载,但其成本极为高昂。除上述问题 之外,在实际的电接触测试场合中,其电连接方式即使使用四线制,仍然会有部分的寄生电 阻无法去除,其包含在测试结果内,使得测试精确度大打折扣。 【实用新型内容】
[0003] 本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺点,提供了一种基于斜面接触的微 弱接触力的锻层接触电阻测试装置,该装置能够精确测量微弱接触力的锻层接触电阻,成 本较低。
[0004] 为达到上述目的,本实用新型所述的基于斜面接触的微弱接触力的锻层接触电阻 测试装置包括支架、转轴、步进电机、转角支架、滑轨、第一滑块、第二滑块、第一次倾角斜 面、第二次倾角斜面、第一调节螺杆、第二调节螺杆、第一固定块及第一导杆及第二导杆;
[0005] 其中,步进电机位于支架上,支架的上表面固定有第二固定块,转角支架的下端套 接于第二固定块的上端上,转轴的一端穿过转角支架及第二固定块,转轴的另一端与步进 电机的输出轴相连接,滑轨固定于转角支架上,滑轨上设有轨道,第一滑块的下端及第二滑 块的下端均设有与所述轨道相配合的凸起,第一固定块固定于滑轨的上表面,第一固定块 位于第一滑块与第二滑块之间,第一导杆的一端与第一固定块的一侧面相连接,第一导杆 的另一端插入于所述第一滑块内,第二导杆的一端固定于第一固定块的另一侧面,第二导 杆的另一端插入于第二滑块内,第一导杆上套接于第一弹黃,第二导杆上套接有第二弹黃, 其中,第一弹黃位于第一固定块与第一滑块之间,第二弹黃位于第一固定块与第二滑块之 间,第一调节螺杆穿过导轨的侧面与第一滑块的侧面相接触,第二调节螺杆穿过导轨的侧 面与第二滑块相连接,第一调节螺杆、第一滑块、第一导杆、第一固定块、第二导杆、第二滑 块及第二调节螺杆依次分布且在同一直线上;
[0006] 第一次倾角斜面通过第一旋转轴固定于第一滑块的上部,第二次倾角斜面第二旋 转轴固定于第二滑块的上部,待测试样放置于第一次倾角斜面与第二次倾角斜面上,待测 试样的侧面设有锻层。
[0007] 所述第一旋转轴及第二旋转轴均包括套筒、活动轴忍、第一紧固锁定螺钉及第二 紧固锁定螺钉,活动轴忍空套于套筒内,活动轴忍与套筒之间设有若干滚珠,活动轴忍的两 端设有内螺纹,第一紧固锁定螺钉穿过套筒的一端伸入到活动轴忍的一端内,第二紧固锁 定螺钉穿过套筒的另一端伸入到活动轴忍的另一端内,第一滑块的上部设有第=固定块, 第一次倾角斜面的端部设有第一凹槽,第=固定块位于所述第一凹槽内,第一旋转轴中的 套筒穿过所述第一凹槽的壁面及第=固定块,且第一旋转轴中套筒的外壁与第一凹槽的壁 面相连接;第二滑块的上部设有第四固定块,第二次倾角斜面的端部设有第二凹槽,第四固 定块位于所述第二凹槽内,第二旋转轴中的套筒穿过第二凹槽的壁面及第四固定块,第二 旋转轴中套筒的外壁与第二凹槽的壁面相连接。
[0008] 所述第一次倾角斜面的上表面固定有第一测试斜面样块,第二次倾角斜面的上表 面固定有第二测试斜面样块,待测样品放置于第一测试斜面样块及第二测试斜面样块上。
[0009] 第一次倾角斜面与第一测试斜面样块通过第一螺钉相连接,
[0010] 第二次倾角斜面与第二测试斜面样块通过第二螺钉相连接。
[0011] 支架通过螺栓固定于测试平台上。
[0012] 待测样品为圆柱型结构。
[0013] 本实用新型具有W下有益效果:
[0014] 本实用新型所述的基于斜面接触的微弱接触力的锻层接触电阻测试装置在具体 操作时,将设有锻层的待测试样放置于第一次倾角斜面及第二次倾角斜面上,通过待测试 样自身重量来对第一次倾角斜面及第二次倾角斜面施加接触力,避免传统方法动态加载过 程对接触界面的二次塑型,通过步进电机及第一旋转轴及第二旋转轴调节于第一次倾角斜 面及第二次倾角斜面的倾斜度,通过第一调节螺杆及第二调节螺杆调节第一次倾角斜面与 第二次倾角斜面之间的间距,在实际操作时,通过多次调整第一次倾角斜面与第二次倾角 斜面之间的夹角,再通过差分处理,即可消除传统接触电阻测试中无法去除的寄生电阻影 响,操作较为简单,测试的成本低廉,精度较高。
【附图说明】
一种基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置的制造方法附图
[0015] 图1为本实用新型的正面图;
[0016] 图2为本实用新型的立体图;
[0017] 图3为本实用新型中第一旋转轴111及第二旋转轴112的结构示意图;
[0018] 图4为本实用新型中第一旋转轴111及第二旋转轴112的截面图;
[0019] 图5为本实用新型测试过程中结构示意图;
[0020] 图6为本实用新型测试过程中待测试样的受力图;
[0021] 图7为本实用新型测试过程中力的分解图;
[0022] 图8为本实用新型测试过程中电阻的测试原理图。
[0023] 其中,1为支架、2为转角支架、3为滑轨、4为第一滑块、5为第二滑块、6为第一次倾 角斜面、7为第二次倾角斜面、8为第一测试斜面样块、9为第二测试斜面样块、10为第一固定 块、111为第一旋转轴、112为第二旋转轴、12为第一导杆、131为第一紧固锁定螺钉、132为第 二紧固锁定螺钉、14为套筒、15为活动轴忍、16为滚珠、171为第一调节螺杆、172为第二调节 螺杆。
【具体实施方式】
[0024] 下面结合附图对本实用新型做进一步详细描述:
[0025] 参考图1、图2、图3及图4,本实用新型所述的基于斜面接触的微弱接触力的锻层接 触电阻测试装置包括支架1、转轴、步进电机、转角支架2、滑轨3、第一滑块4、第二滑块5、第 一次倾角斜面6、第二次倾角斜面7、第一调节螺杆171、第二调节螺杆172、第一固定块10及 第一导杆12及第二导杆;步进电机位于支架1上,支架1的上表面固定有第二固定块,转角支 架2的下端套接于第二固定块的上端上,转轴的一端穿过转角支架2及第二固定块,转轴的 另一端与步进电机的输出轴相连接,滑轨3固定于转角支架2上,滑轨3上设有轨道,第一滑 块4的下端及第二滑块5的下端均设有与所述轨道相配合的凸起,第一固定块10固定于滑轨 3的上表面,第一固定块10位于第一滑块4与第二滑块5之间,第一导杆12的一端与第一固定 块10的一侧面相连接,第一导杆12的另一端插入于所述第一滑块4内,第二导杆的一端固定 于第一固定块10的另一侧面,第二导杆的另一端插入于第二滑块5内,第一导杆12上套接于 第一弹黃,第二导杆上套接有第二弹黃,其中,第一弹黃位于第一固定块10与第一滑块4之 间,第二弹黃位于第一固定块10与第二滑块5之间,第一调节螺杆171穿过导轨的侧面与第 一滑块4的侧面相接触,第二调节螺杆172穿过导轨的侧面与第二滑块5相连接,第一调节螺 杆171、第一滑块4、第一导杆12、第一固定块10、第二导杆、第二滑块5及第二调节螺杆172依 次分布且在同一直线上;第一次倾角斜面6通过第一旋转轴111固定于第一滑块4的上部,第 二次倾角斜面7第二旋转轴112固定于第二滑块5的上部,待测试样放置于第一次倾角斜面6 与第二次倾角斜面7上,待测试样的侧面设有锻层。
[00%]需要说明的是,所述第一旋转轴111及第二旋转轴112均包括套筒14、活动轴忍15、 第一紧固锁定螺钉131及第二紧固锁定螺钉132,活动轴忍15空套于套筒14内,活动轴忍15 与套筒14之间设有若干滚珠16,活动轴忍15的两端设有内螺纹,第一紧固锁定螺钉131穿过 套筒14的一端伸入到活动轴忍15的一端内,第二紧固锁定螺钉132穿过套筒14的另一端伸 入到活动轴忍15的另一端内,第一滑块4的上部设有第=固定块,第一次倾角斜面6的端部 设有第一凹槽,第=固定块位于所述第一凹槽内,第一旋转轴111中的套筒14穿过所述第一 凹槽的壁面及第=固定块,且第一旋转轴111中套筒14的外壁与第一凹槽的壁面相连接;第 二滑块5的上部设有第四固定块,第二次倾角斜面7的端部设有第二凹槽,第四固定块位于 所述第二凹槽内,第二旋转轴112中的套筒14穿过第二凹槽的壁面及第四固定块,第二旋转 轴112中套筒14的外壁与第二凹槽的壁面相连接;第一次倾角斜面6的上表面固定有第一测 试斜面样块8,第二次倾角斜面7的上表面固定有第二测试斜面样块9,待测样品放置于第一 测试斜面样块8及第二测试斜面样块9上;第一次倾角斜面6与第一测试斜面样块8通过第一 螺钉相连接;第二次倾角斜面7与第二测试斜面样块9通过第二螺钉相连接;支架1通过螺栓 固定于测试平台上;待测样品为圆柱型结构。
[0027] 本实用新型的测试过程为:
[0028] 将待测试样放置于调节好的第一次倾角斜面6与第二次倾角斜面7上,从而形成一 对接触电阻Rci及Rc2。基于四线法将微欧计电压高位El、电压低位El、电流高位Il、电流低位 12连接于第一次倾角斜面6及第二次倾角斜面7的电极上,从而获得串联回路中的总阻值。
[0029] 参考图6及图7,待测试样与第一次倾角斜面6与第二次倾角斜面7之间的正接触力 fi及f2满足如下关系:
[0030]
[0031] 其中目1及目2为基于水平平面为参考的倾角值,其由次倾角目bl及目b2与主倾角目m修正 得出;
[0032] 参考图8,测得的总电阻为Rm,在四线法的测试回路中存在串联若干寄生电阻,其 满足于Rpl+Rp2+Rcl+Rc2+Rs = Rm,其中,妃2瓜劝两个接触面的接触电阻,接触电阻的影响因素 包含表面粗糖度Ra,设接触电阻Rc为接触压力f的函数Rc = k/f;Rpi及Rp2为四线法接触端到 测试平面的寄生阻抗,Rs为待测试样的电阻,其关系如公式(1)所示。通过改变两级的倾角 参考实现基于圆柱体自身重力对与接触压力相关的接触电阻Rc的扰动,从而根据(1)式得 出不同接触压力下的接触电阻Rc变化趋势。
[0033]
[0034] 通过多次倾角下的接触电阻测试结果,得出锻层接触电阻关于接触力的总和Rpi+ Rp2+Rcl+Rc2+Rs = Rm。进而通过拟合方法得出在该测试回路中的Rp成Rp2,I?c成Rc2 ,进而得出接 触力与接触电阻的系数k,通过k值比较和标定不同的锻层接触电阻特性,最后优选出具有 良好接触特性的锻层材料。
【主权项】
1. 一种基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特征在于,包括支架 (1)、转轴、步进电机、转角支架(2)、滑轨(3)、第一滑块(4)、第二滑块(5)、第一次倾角斜面 (6) 、第二次倾角斜面(7)、第一调节螺杆(171)、第二调节螺杆(172)、第一固定块(10)及第 一导杆(12)及第二导杆; 其中,步进电机位于支架(1)上,支架(1)的上表面固定有第二固定块,转角支架(2)的 下端套接于第二固定块的上端上,转轴的一端穿过转角支架(2)及第二固定块,转轴的另一 端与步进电机的输出轴相连接,滑轨(3)固定于转角支架(2)上,滑轨(3)上设有轨道,第一 滑块(4)的下端及第二滑块(5)的下端均设有与所述轨道相配合的凸起,第一固定块(10)固 定于滑轨(3)的上表面,第一固定块(10)位于第一滑块(4)与第二滑块(5)之间,第一导杆 (12)的一端与第一固定块(10)的一侧面相连接,第一导杆(12)的另一端插入于所述第一滑 块(4)内,第二导杆的一端固定于第一固定块(10)的另一侧面,第二导杆的另一端插入于第 二滑块(5)内,第一导杆(12)上套接于第一弹簧,第二导杆上套接有第二弹簧,其中,第一弹 簧位于第一固定块(10)与第一滑块(4)之间,第二弹簧位于第一固定块(10)与第二滑块(5) 之间,第一调节螺杆(171)穿过导轨的侧面与第一滑块(4)的侧面相接触,第二调节螺杆 (172)穿过导轨的侧面与第二滑块(5)相连接,第一调节螺杆(171)、第一滑块(4)、第一导杆 (12)、第一固定块(10)、第二导杆、第二滑块(5)及第二调节螺杆(172)依次分布且在同一直 线上; 第一次倾角斜面(6)通过第一旋转轴(111)固定于第一滑块(4)的上部,第二次倾角斜 面(7)第二旋转轴(112)固定于第二滑块(5)的上部,待测试样放置于第一次倾角斜面(6) 与第二次倾角斜面(7)上,待测试样的侧面设有镀层。2. 根据权利要求1所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,所述第一旋转轴(111)及第二旋转轴(112)均包括套筒(14)、活动轴芯(15)、第一紧 固锁定螺钉(131)及第二紧固锁定螺钉(132),活动轴芯(15)空套于套筒(14)内,活动轴芯 (15)与套筒(14)之间设有若干滚珠(16),活动轴芯(15)的两端设有内螺纹,第一紧固锁定 螺钉(131)穿过套筒(14)的一端伸入到活动轴芯(15)的一端内,第二紧固锁定螺钉(132)穿 过套筒(14)的另一端伸入到活动轴芯(15)的另一端内,第一滑块(4)的上部设有第三固定 块,第一次倾角斜面(6)的端部设有第一凹槽,第三固定块位于所述第一凹槽内,第一旋转 轴(111)中的套筒(14)穿过所述第一凹槽的壁面及第三固定块,且第一旋转轴(111)中套筒 (14)的外壁与第一凹槽的壁面相连接;第二滑块(5)的上部设有第四固定块,第二次倾角斜 面(7)的端部设有第二凹槽,第四固定块位于所述第二凹槽内,第二旋转轴(112)中的套筒 (14)穿过第二凹槽的壁面及第四固定块,第二旋转轴(112)中套筒(14)的外壁与第二凹槽 的壁面相连接。3. 根据权利要求1所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,所述第一次倾角斜面(6)的上表面固定有第一测试斜面样块(8),第二次倾角斜面 (7) 的上表面固定有第二测试斜面样块(9),待测样品放置于第一测试斜面样块(8)及第二 测试斜面样块(9)上。4. 根据权利要求3所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,第一次倾角斜面(6)与第一测试斜面样块(8)通过第一螺钉相连接。5. 根据权利要求4所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,第二次倾角斜面(7)与第二测试斜面样块(9)通过第二螺钉相连接。6. 根据权利要求1所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,支架(1)通过螺栓固定于测试平台上。7. 根据权利要求1所述的基于斜面接触的微弱接触力的镀层接触电阻测试装置,其特 征在于,待测样品为圆柱型结构。
【文档编号】G01R27/02GK205720436SQ201620311298
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年4月14日
【发明人】陈雄, 贺永宁
【申请人】西安交通大学
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